3.Возможно получение рельефных изображений3.Нет собственного ограничителя травления и определения изображения
- геометрическая форма определяется подтравливанием.
с передней стороны (консоли, каналы, затворы)
-геометрическая форма определяется шаблоном маски,
с обратной стороны (мембраны, отверстия)
3. Химическое воздействие:
2.Изменяемый профиль2.Увеличение времени травления.
- металлизация (Cr, Al).
- химическим осаждением из паровой фазы при пониженном давлении SiO2 или Si3N4-нанесение фоторезиста
2. Маскирование полимерами и тонкими плёнками:
состав газанапряжение смещениятемпература подложкиплотность плазмыдавление процесса1.Осмысленно получаемое горизонтальное изображение.1.Обработка пластин по отдельности.
1.Параметры плазмы:
Параметры процессаПреимуществаНедостатки
Сухое травление - это метод силиктивного удаления не маскированных участков поверхности. Особенности процесса заключаются в том, что этот процесс можно комбинировать с технологией тонких плёнок и с технологией КМОП. Также посредством физико-химического травления контролируется профиль травления.
Сухое травление.
Под кремниевой объёмной микрообработкой понимают технологию глубинного объёмного травления, при чём травление может быть как жидкое химическое анизотропное, так и плазменное.
Кремниевая объёмная микрообработка.
В настоящее время существует несколько базовых технологий производства микроактюаторов, точнее технологий производства МЭМС (микроэлектромеханических устройств) составной частью которых, в том числе, являются микроактюаторы. Это технология объёмной микрообработки, поверхностной микрообработки, LIGA и SIGA технологии, а также MUMPs процесс.
Технологии производства микроактюаторов.
Микротехнологии
Комментариев нет:
Отправить комментарий